KUALA LUMPUR, 19 MAC: Lapangan Terbang Antarabangsa Kuala Lumpur (KLIA) memulakan proses nyah cemar bagasi yang tiba dengan sistem sinaran ultraungu automatik (UV) baharu untuk membendung penularan Covid-19 dan memastikan keselamatan di lapangan terbang terus berada pada tahap tertinggi.
Dalam satu kenyataan hari ini, pengendali lapangan terbang Malaysia Airports Holdings Bhd (MAHB) berkata inisiatif terkini Airports 4.0 itu merangkumi bebuli UV yang dipasang pada terowong tertutup dalam sistem pengendalian bagasi (BHS) yang menyahjangkit bagasi secara automatik apabila melalui sistem konveyor.
Ketua Pegawai Eksekutif kumpulan MAHB Datuk Mohd Shukrie Mohd Salleh berkata syarikat itu membuat pelaburan yang besar dalam teknologi UV kerana ia terbukti berkesan menghapuskan pencemaran di permukaan seperti kulapuk, bakteria dan biofilem mikrob yang lain.
“Sebelum ini, kami memasang ruang UV yang menghasilkan sinaran UV bagi mengelakkan penularan patogen bawaan udara untuk tandas kami,” katanya.
MAHB meneruskan usaha tersebut melalui penggunaan terowong UV untuk mengurangkan risiko daripada pencemaran mikrob bukan sahaja untuk pelanggan, malah kepada kakitangan di lapangan yang mengendalikan bagasi.
“Sebagai pengendali lapangan terbang, adalah penting untuk kami memastikan pengalaman pelanggan secara keseluruhannya diuruskan dengan berhati-hati dengan mengambil kira pelbagai titik sentuhan semasa perjalanan.
“Penumpang diberi jaminan mengenai keselamatan mereka apabila mengambil beg yang telah disanitasi dan bersih di bahagian tuntutan semula. Kami sedang melakukan langkah menambah baik aset utama bagi BHS dan terowong disinfeksi UV adalah antara ciri-ciri tetap terkini itu,” katanya.
MAHB berkata dua daripada empat terowong itu telah dipasang manakala selebihnya dijangka siap pada bulan depan.
Dengan pelancaran Program Imunisasi Kebangsaan Covid-19 pada bulan lepas, MAHB berharap agar perjalanan udara akan pulih secara berperingkat dan ia komited untuk memastikan perjalanan penumpang adalah selamat dan lancar.
- BERNAMA
